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1. 專(zhuān)利名稱(chēng)：網(wǎng)印刮刀修整機(jī)

專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)枺?2253009.6

公開(kāi)號(hào)：2568414

申請(qǐng)人：龐統(tǒng)明

      本實(shí)用新型屬于切割裝置，特別是一種用于切割柔韌材料的網(wǎng)印刮刀修整機(jī)，其機(jī)架設(shè)置有固定夾板和活動(dòng)夾板，機(jī)架設(shè)有傳導(dǎo)絲杠，其絲杠螺母固定的傳導(dǎo)板與活動(dòng)夾板設(shè)有滑動(dòng)接合的傳導(dǎo)斜邊，機(jī)架設(shè)有平行于兩夾板直線夾持面的并支撐刀架的光杠，刀架固定的刀具與兩夾板直線夾持面相對(duì)應(yīng)，牽引刀架往復(fù)運(yùn)動(dòng)的鋼絲繩卷繞于卷繩輪，其軸端套裝有手搖柄。本修整機(jī)的傳導(dǎo)絲杠及傳導(dǎo)板的楔進(jìn)式推動(dòng)使活動(dòng)夾板能夠平行移動(dòng)，保證了待修刮刀的刮片所受夾持力均衡而避免變形，光杠支撐的刀架使刀具運(yùn)動(dòng)時(shí)的角度穩(wěn)定一致，所述結(jié)構(gòu)保證了刮刀修整的高質(zhì)量。本修整機(jī)具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、可靠以及操作方便的突出優(yōu)點(diǎn)。

2. 專(zhuān)利名稱(chēng)：快門(mén)式水冷紫外線反光燈罩

專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)枺?2248087.0

公開(kāi)號(hào)：2568416

申請(qǐng)人：劉洪生

      快門(mén)式水冷紫外線反光燈罩是印刷機(jī)械的輔助設(shè)備，屬印刷機(jī)械行業(yè)。它對(duì)紫外燈散發(fā)的紅外線帶來(lái)的熱量吸收完全，產(chǎn)品結(jié)構(gòu)合理。本實(shí)用新型包括框體、紫外燈，其特征是在框體內(nèi)連接反光燈罩，反光燈罩上連接遮光板；所述的反光燈罩上有弧形內(nèi)槽，在內(nèi)槽底內(nèi)有通水道，通水道一端有進(jìn)水口；一端有出水口；兩個(gè)從連動(dòng)塊垂直連接在反光燈罩的下方；所述的遮光板一端有上臺(tái)階，遮光板一端有下臺(tái)階；在遮光板內(nèi)有通水道，端面上有入水口、出水口；遮光板內(nèi)有通水道，端面上有入水口，出水口；主連動(dòng)塊一面與遮光板連接，另一面與旋動(dòng)齒輪組4連接。本實(shí)用新型冷卻效果好。

3. 專(zhuān)利名稱(chēng)：有關(guān)模板的制造方法和制成的模板

專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)枺?1809984.X

公開(kāi)號(hào)：1434930

申請(qǐng)人：瑞典奧布杜卡特公司

      一種模板制造的方法，優(yōu)選用于納米壓印光刻，其中模板包括一個(gè)第一材料的平板和布置在板上的第二材料的三維結(jié)構(gòu)，在本方法中，為了形成所述結(jié)構(gòu)，所述第二材料引入加在所述板上。依照本發(fā)明，通過(guò)至少150℃的熱處理，所述第二材料然后與所述第一材料的板固定，用于制造所述模板。本發(fā)明還涉及用本方法制造的模板。

4.專(zhuān)利名稱(chēng)：將圖案轉(zhuǎn)移到一個(gè)物體上的裝置

專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)枺?1806518.X

公開(kāi)號(hào)：1437714

申請(qǐng)人：瑞典奧博杜卡特股份公司

      將一個(gè)微米或納米結(jié)構(gòu)的圖案從印模轉(zhuǎn)移到物體上的裝置，它包括帶有印模的接受面的第一接觸裝置和帶有物體的接受面的第二接觸裝置。一個(gè)壓力裝置能夠操縱至少一個(gè)接觸裝置，使印模與物體相互配合。一個(gè)接觸裝置包括一個(gè)基礎(chǔ)和一個(gè)支承件。支承件有一個(gè)第一端和一個(gè)第二端，第一端形成所述一個(gè)接觸面，相對(duì)的第二端與基礎(chǔ)轉(zhuǎn)動(dòng)連接，使印模與物體相互接觸時(shí)自動(dòng)處于相互平行的位置。

5. 專(zhuān)利名稱(chēng)：襯底及與該結(jié)構(gòu)的制造相關(guān)的工藝

專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)枺?1811373.7

公開(kāi)：1437715

申請(qǐng)人：瑞典奧布杜卡特公司

      涉及用于納米印制光刻的一種襯底，該襯底至少包括布置在襯底的一個(gè)表面上的一個(gè)第一涂層和一個(gè)第二涂層，所述第一涂層由一種正抗蝕劑組成，而所述第二涂層由一種負(fù)抗蝕劑組成。本發(fā)明還涉及與在襯底上的納米印制光刻相關(guān)的一種工藝，在第一階段中將一個(gè)納米尺寸的圖案通過(guò)模板壓印在第二涂層中，然后，在第二階段中，在第一階段中暴露出的第一涂層的表面上對(duì)其進(jìn)行一個(gè)基本上各向同性的顯影法，選擇顯影方法和所述第一和第二涂層所用的材料，使得第一涂層的顯影比第二涂層的顯影更快，從而在涂層中得到一個(gè)底切輪廓。

6. 專(zhuān)利名稱(chēng)：用于將升華墨水升華和固定到記錄介質(zhì)上的加熱固定裝置

專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)枺?3104431.x

公開(kāi)號(hào)：1438125

申請(qǐng)人：日本諾日士鋼機(jī)株式會(huì)社

      一種加熱固定裝置，具有用于加熱記錄介質(zhì)的加熱單元，所述記錄介質(zhì)具有基底，固定層和表面層，以便升華預(yù)先施加到表面層上的升華墨水，從而將升華墨水轉(zhuǎn)移到固定層上，所述加熱單元包括用于傳送加熱空間內(nèi)的記錄介質(zhì)的加熱傳送機(jī)構(gòu)，用于加熱空氣的加熱器主體，及送風(fēng)機(jī)構(gòu)，該送風(fēng)機(jī)構(gòu)用于將加熱器主體加熱的熱空氣供給到正由加熱傳送機(jī)構(gòu)傳送的記錄介質(zhì)。該加熱固定裝置還包括扁平導(dǎo)向件和用于加熱該導(dǎo)向件的加熱器，所述扁平導(dǎo)向件用于與正由加熱傳送機(jī)構(gòu)傳送的記錄介質(zhì)的表面接觸。 （待續(xù)）作者單位:杭州市科技信息研究院